| 英特尔大连工厂将用新技术降低环境污染 |
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| 2007-03-26 10:28 文章来源：大连 外经贸局 |
| 文章类型：原创 内容分类：其它 |
3月23日，英特尔证实计划下周一(26日)公布在中国大连建厂的具体信息，预计总投资25亿美元。英特尔大连工厂将采用新技术降低对当地环境的污染。
据悉，我国过去过于强调外资引进的规模，外资质量问题得不到足够重视。加上环保法规和相关监管不到位，我国在经济发展过程中出现了令人担忧的环境污染问题。长久以来，芯片工业一直是耗费水资源的产业。英特尔把工厂设在美丽的海滨城市大连，环保问题颇受关注。
英特尔方面曾表示，英特尔作为负责任的企业公民，一直从环保角度重视水资源的保护，多年来在开发先进的水处理技术方面投入巨资。除了在生产运作的各个环节中探索如何节能，英特尔还在不断提高技术和改进制造工艺来节约水资源和能耗。
“大连工厂使用300毫米硅圆晶片生产芯片，可比200毫米的硅圆晶片节省60%以上的电能及用水，而且在工厂运作中它还会不断寻找新的节水节能方法。”一位相关人士表示。
“可以想象，英特尔的环保理念和水处理技术将为中国发展精尖水平的制造业产生怎样的影响。”英特尔期望，在大连投资建厂既带动相关产业的发展，也不影响这座时尚之都的美丽，还要把中国的工业环保提升到一个新高度。
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